在纳米工艺技术 —— 特别是在先进工艺节点(28nm及以下) —— 设计需要许多附加的库视图,以便实现高质量的芯片,并避免由于不准确的签核分析而导致的芯片重制。对元件特定的电压变化或温度梯度的精确建模,在多个电压和多个温度下表征每个库至关重要,增加了库的极限情况(corner)的总数。对于最先进的制程,提供替代的单元库,以牺牲面积和性能为代价提高产量,变得越来越普遍。因此,创建和维护所有这些库的视图正在成为设计流程中的主要瓶颈。

Cadence提供以 Cadence® Virtuoso® Characterization Suite 为中心的库特性提取流程。该套件由世界各地的主要客户采用,包括Virtuoso Liberate™ 特性提取解决方案,Virtuoso Liberate LV 库验证解决方案,Virtuoso Variety™ 统计特性提取解决方案,Virtuoso Liberate MX 存储器特性提取解决方案,和 Virtuoso Liberate AMS 混合信号特性提取解决方案。该套件为基础IP的特性提取、漂移建模和验证,提供业界最完整、最强大的解决方案,覆盖了标准单元、I/O 、复杂多数位单元、存储器和混合信号模块等。 Cadence的专利 InsideView 技术通过提高库计算能力并确保IP的时序、功耗、噪声和统计覆盖,提供与芯片实现更好的相关性。 Virtuoso特性提取套件还与 Cadence Spectre® 电路仿真器 —— 工业标准SPICE仿真器 —— 集成,可提供更高的计算能力,具有先进工艺库所需的精度。