在纳米工艺技术——特别是在先进工艺节点(28nm及以下)——进行设计,需要许多附加的库视图,以便实现高质量的芯片,并避免由于不准确的签核级分析而导致的芯片重铸。为了管理泄漏功耗,通常具有低,典型和高阈值电压(SVT,LVT,HVT等)的单元,每个具有不同的功耗和性能特性。

对于特定实例的电压变化或温度梯度的精确建模,在多个电压和多个温度下表征每个库至关重要,这样就增加了库的边界情况的总数。对于最先进的制程,提供替代的单元库,牺牲面积和性能以提高合格量,变得越来越普遍。因此,创建和维护所有这些库视图正在成为设计流程中的主要瓶颈。

Cadence提供以Cadence® Virtuoso® Characterization Suite为中心的库特征提取流程。该套件的应用范围包括标准单元,I / O,复杂多位单元,以及存储器和混合信号模块,它提供了业界最完整、最强大的解决方案,对您的IP进行特性提取和验证。 Cadence的专利 Inside View 技术通过提高库吞吐量并确保IP的时序,功率,噪声和统计覆盖,提供与物理芯片的更好的相关性。 Virtuoso Characterization Suite 还与 Cadence Spectre® 电路仿真器(工业标准SPICE仿真器)集成,可提供更高的吞吐量,具有先进工艺节点库所需的精度。